TRANSISTORS A EFFET DE CHAMP A JONCTION DE SILICIUM A 4,2 K.
SILICON JUNCTION FIELD EFFECT TRANSISTORS AT 4.2 K.
Auteurs : NAWROCKI W.
Type d'article : Article
Résumé
ON REND COMPTE DES RESULTATS DE RECHERCHES SUR DES TRANSISTORS A EFFET DE CHAMP A JONCTION DE SILICIUM POLONAIS DU TYPE BF 245 A LA TEMPERATURE DE L'HELIUM LIQUIDE. LE BF 245B ET LE BF 245C FONCTIONNAIENT DE FACON SATISFAISANTEA 4,2 K MAIS LES TRANSISTORS BF 245A ETAIENT DIFFICILEMENT MAITRISABLES OU NON MAITRISABLES DANS L'HELIUM LIQUIDE. ON A OBSERVE LES TRANSFORMATIONS SUIVANTES DES TRANSISTORS BF 245B ET 245C : LA TRANSCONDUCTANCE EST ENVIRON DEUX FOIS PLUS GRANDE A 4,2 K QU'A 300 K, LA VALEUR ABSOLUE DE LA TENSION DE DECONTRACTION EST ENVIRON DEUX FOIS PLUS PETITE A 4,2 K ET LA TENSION DU BRUIT EST DIX FOIS PLUS PETITE DANS L'HELIUM LIQUIDE.
Détails
- Titre original : SILICON JUNCTION FIELD EFFECT TRANSISTORS AT 4.2 K.
- Identifiant de la fiche : 1989-0422
- Langues : Anglais
- Source : Cryogenics - vol. 28 - n. 6
- Date d'édition : 1988
Liens
Voir d'autres articles du même numéro (6)
Voir la source
Indexation
-
PROPRIETES THERMOELECTRIQUES DU TRANSISTOR AU S...
- Auteurs : IGNAT'EV V. K., PUDALOV V. M.
- Date : 1983
- Langues : Russe
- Source : Prib. Teh. eksp. - n. 1
Voir la fiche
-
Electric and magnetic characteristics of a coba...
- Auteurs : SAKASAI K., ARA K., ITOH H., KISHIMOTO M., KATAGIRI M.
- Date : 05/1994
- Langues : Anglais
- Source : Rev. sci. Instrum. - vol. 65 - n. 5
Voir la fiche
-
Two-dimensional electron arrays on a helium film.
- Auteurs : DAHM A. I., JIANG H. W.
- Date : 1991
- Langues : Anglais
- Source : Fiz. nizk. Temp. - vol. 17 - n. 9
Voir la fiche
-
Resistivité de couche minces de cuivre et d'arg...
- Auteurs : LOPEZ RIOS T., GUILLET S., LANCO P.
- Date : 22/09/1994
- Langues : Français
- Source : C. R. Acad. Sci., Sér. II - vol. 319 - n. 6
Voir la fiche
-
Cryogenic operation of silicon power devices.
- Auteurs : SINGH R., BALIGA B. J.
- Date : 1998
- Langues : Anglais
Voir la fiche