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Densité de courant critique et force d'ancrage du flux dans des films d'YHBCO produits par épitaxie.

Critical current density and flux pinning in YHBCO epitaxial films.

Auteurs : PENG Z. S., WAN C. R., JIANG C. Y., HAO J. M., YIN B., ZHAO Z. X., HUA Z. Q., YANG B. C.

Type d'article : Article

Résumé

The critical current density of yttrium(1-x)-holmium(x)-barium(2)-copper(3)-oxygen(7-) epitaxial thin films with x= 0, 0.2, 0.4, 0.7 at various temperatures and magnetic fields was measured magnetically. The current density and flux pinning density values are significantly enhanced with the holmium substitute amount x with the optimal effect achieved at holmium concentration around x= 0.4 in the entire measured temperature (30-77 K) and magnetic field (0-3 T) ranges.

Détails

  • Titre original : Critical current density and flux pinning in YHBCO epitaxial films.
  • Identifiant de la fiche : 1998-0749
  • Langues : Anglais
  • Source : J. Supercond. - vol. 9 - n. 6
  • Date d'édition : 12/1996
  • Document disponible en consultation à la bibliothèque du siège de l'IIF uniquement.

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