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PROPRIETES DE PELLICULES MULTICOUCHES DE VANADIUM3 -SILICIUM DIFFUSEES THERMIQUEMENT.

PROPERTIES OF THERMALLY DIFFUSED VANADIUM3 -SILICON MULTILAYER FILMS.

Auteurs : STEFANO S. de

Type d'article : Article

Résumé

ON REND COMPTE DES RESULTATS POUR DES PELLICULES OBTENUES PAR RECUIT THERMIQUE SOUS VIDE DE QUELQUES COUCHES DE VANADIUM ET DE SILICIUM DEPOSEES EN SERIE PAR EVAPORATION SOUS L'ACTION DE RAYONS ELECTRIQUES. ON A OBSERVE DES TEMPERATURES CRITIQUES DE < RESISTANCE > JUSQU'A 16,2 K AVEC TRES FORTE PENTE DE LA BANDE DE TRANSITION. L'INFLUENCE DE LA TEMPERATURE SUR LA RESISTANCE A L'ETAT NORMAL EST EXAMINEE DANS LE CADRE D'UN MODELE PHENOMENOLOGIQUE DE DERIVATION-RESISTANCE.

Détails

  • Titre original : PROPERTIES OF THERMALLY DIFFUSED VANADIUM3 -SILICON MULTILAYER FILMS.
  • Identifiant de la fiche : 1985-2286
  • Langues : Anglais
  • Source : Cryogenics - vol. 25 - n. 4
  • Date d'édition : 1985

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