CONTROLE DES SALLES BLANCHES DANS LESQUELLES ON FABRIQUE DES SEMI-CONDUCTEURS.
CONTROL OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CLEAN ROOMS.
Auteurs : ATKINSON G. V., MARTINO G. R.
Résumé
MAINTENIR LA TEMPERATURE ET L'HUMIDITE AUX MEMES NIVEAUX, TOUT AU LONG DU PROCEDE DE FABRICATION, PERMET D'AUGMENTER CONSIDERABLEMENT LA QUALITE FINALE DES < PUCES >. DES APPAREILS DE COMMANDE ANALOGIQUES ELECTRONIQUES, DES CAPTEURS ET DES ACTIONNEURS ONT ETE UTILISES AVEC SUCCES POUR SATISFAIRE CES EXIGENCES PRIMORDIALES DE REGULATION, NON SEULEMENT DANS LES NOUVELLES INSTALLATIONS MAIS AUSSI POUR LA RENOVATION DES SYSTEMES DE REGULATION PNEUMATIQUES DEJA EXISTANTS. DANS LE RAPPORT, ON TRAITE DE L'APPLICATION SATISFAISANTE DE CES SYSTEMES DE REGULATION A PLUSIEURS INSTALLATIONS DE PRODUCTION DE SEMICONDUCTEURS. ON MENTIONNE LES ZONES QUI NECESSITENT UNE SURVEILLANCE PARTICULIERE ET ON RAPPORTE LES EXPERIENCES EFFECTUEES SUR L'INSTALLATION. L'ARTICLECOMPORTE QUELQUES OBSERVATIONS ET RECOMMANDATIONS QUE L'ON A JUGEES PERTINENTES POUR LA CONCEPTION ET L'INSTALLATION DE CES SYSTEMES DE REGULATION SPECIALISES.
Détails
- Titre original : CONTROL OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CLEAN ROOMS.
- Identifiant de la fiche : 1990-2551
- Langues : Anglais
- Date d'édition : 1989
- Source : Source : ASHRAE Trans.
vol. 95; n. 1; 477-482; 7 fig.; 8 ref. - Document disponible en consultation à la bibliothèque du siège de l'IIF uniquement.
Indexation
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HVAC FOR HIGH-TECH PRODUCTS.
- Auteurs : MESZAROS I. R., NISHIMURA M.
- Date : 08/1986
- Langues : Anglais
- Source : ASHRAE Journal - vol. 28 - n. 8
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Le présent et l'avenir des salles blanches.
- Auteurs : SUZUKI M.
- Date : 08/1994
- Langues : Japonais
- Source : Refrigeration - vol. 69 - n. 802
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BUILDING AUTOMATION SYSTEMS IN INDUSTRIAL HVAC ...
- Auteurs : DABHOLKAR H. M.
- Date : 1989
- Langues : Anglais
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HVAC SYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR CLEAN ROOMS. 1. ...
- Auteurs : NAUGHTON P.
- Date : 1990
- Langues : Anglais
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CLEAN ROOM AUTOMATION BY MEANS OF COMPLETE SYST...
- Auteurs : SCHMID R., SIGRIST R.
- Date : 1991
- Langues : Français
- Source : Rev. tech. Sulzer - Sulzer tech. Rev. - vol. 73 - n. 3
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