Resistivité de couche minces de cuivre et d'argent sur silicium(100)2x1.

Auteurs : LOPEZ RIOS T., GUILLET S., LANCO P.

Type d'article : Article

Résumé

La résistivité électrique des couches minces de cuivre et d'argent de quelques centaines d'angströms déposées à la température ambiante sur des surfaces silicium(100)2x1 a été mesuré entre 4 et 300 K. La résistivité de ces échantillons présente une dépendance anormale avec la température due à une contribution inattendue du substrat de silicium.

Détails

  • Titre original : Resistivité de couche minces de cuivre et d'argent sur silicium(100)2x1.
  • Identifiant de la fiche : 1995-2716
  • Langues : Français
  • Source : C. R. Acad. Sci., Sér. II - vol. 319 - n. 6
  • Date d'édition : 22/09/1994
  • Document disponible en consultation à la bibliothèque du siège de l'IIF uniquement.

Liens


Voir la source