PartagerSource d'oxygène atomique à haut flux pour la déposition de films supraconducteurs à haute température critique.
A high-flux atomic oxygen source for the deposition of high-critical temperature superconducting films.
Auteurs : YU-JAHNES L. S., BROGAN W. T., ANDERSON A. C., CIMA M. J.
Type d'article : Article
Détails
- Titre original : A high-flux atomic oxygen source for the deposition of high-critical temperature superconducting films.
- Identifiant de la fiche : 1993-3170
- Langues : Anglais
- Source : Rev. sci. Instrum. - vol. 63 - n. 9
- Date d'édition : 09/1992
- Document disponible en consultation à la bibliothèque du siège de l'IIF uniquement.
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