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Application de la théorie de la désadaptation à la prévision de la résistance thermique limite des pellicules minces supraconductrices à haute température critique.

Application of diffuse mismatch theory to the prediction of thermal boundary resistance in thin-film high-critical temperature superconductors.

Auteurs : PHELAN P. E.

Type d'article : Article

Résumé

Thermal boundary resistance plays and important role in the design and performance of thin-film high-temperature superconducting devices, such as infrared detectors and optical switches. Here, the Diffuse Mismatch Model which considers that all phonons reaching the interface between the film and substrate scatter diffusely, is applied to the calculation of boundary resistance.

Détails

  • Titre original : Application of diffuse mismatch theory to the prediction of thermal boundary resistance in thin-film high-critical temperature superconductors.
  • Identifiant de la fiche : 1999-1372
  • Langues : Anglais
  • Source : J. Heat Transf. - vol. 120 - n. 1
  • Date d'édition : 02/1998
  • Document disponible en consultation à la bibliothèque du siège de l'IIF uniquement.

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