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Microcalorimètre à couches minces pour mesure de capacité calorifique entre 1,5 et 800 K.

Thin film microcalorimeter for heat capacity measurements from 1.5 to 800 K.

Auteurs : DENLINGER D. W., ABARRA E. N., ALLEN K., ROONEY P. W., MESSER M. T., WATSON S. K., HELLMAN F.

Type d'article : Article

Résumé

La technologie des semiconducteurs a permis de réaliser un dispositif comportant une membrane de nitrure de silicium amorphe comme porte-échantillon, et une résistance thermométrique constituée d'une couche mince de platine pour les températures supérieures à 40 K ; pour les températures plus basses, la résistance est constituée d'une couche mince de niobium-silicium amorphe, ou est remplacée par un nouveau type de thermomètre à base de silicium polycristallin dopé au bore. L'effet parasite dû au dispositif, substrat inclus, est de deux ordres de grandeur inférieur à celui des calorimètres couramment utilisés pour l'étude des couches minces. Le dispositif est susceptible de mesurer la capacité calorifique d'échantillons de couches minces de quelques microgrammes.

Détails

  • Titre original : Thin film microcalorimeter for heat capacity measurements from 1.5 to 800 K.
  • Identifiant de la fiche : 1995-0088
  • Langues : Anglais
  • Source : Rev. sci. Instrum. - vol. 65 - n. 4
  • Date d'édition : 04/1994
  • Document disponible en consultation à la bibliothèque du siège de l'IIF uniquement.

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