Problèmes des transistors bipolaires à hétérojonctions de SiGe en vue de performances cryogéniques élevées
SiGe heterojunction bipolar transistor issues towards high cryogenic performances.
Auteurs : RAMIREZ-GARCIA E., ZEROUNIAN N., CROZAT P., et al.
Type d'article : Article
Résumé
The performances increase at low temperature make the SiGe HBT a masterpiece for cryogenic circuits. The time-progressive enhancement of f(T) and f(MAX) toward the THz frequency at room and at cryogenic temperatures is presented along with STMicroelectronics and IBM successive HBTs generations. The influence of the Ge content and graduality into the base is discussed, highlighting the keys for best high-frequency cryogenic operation. This is shown with eight different cases and addressed on f(T), f(MAX), the transit time, the minimum noise figure and the equivalent noise resistance. [Reprinted with permission from Elsevier. Copyright, 2008].
Détails
- Titre original : SiGe heterojunction bipolar transistor issues towards high cryogenic performances.
- Identifiant de la fiche : 2010-0693
- Langues : Anglais
- Source : Cryogenics - vol. 49 - n. 11
- Date d'édition : 11/2009
- DOI : http://dx.doi.org/10.1016/j.cryogenics.2008.11.006
Liens
Voir d'autres articles du même numéro (2)
Voir la source
Indexation
- Thèmes : Autres applications des cryotempératures
- Mots-clés : Semi-conducteur; Amélioration; Électronique; Cryotempérature; Cryogénie; Fréquence; Composant
-
Cryogenic operation of silicon power devices.
- Auteurs : SINGH R., BALIGA B. J.
- Date : 1998
- Langues : Anglais
Voir la fiche
-
Electron cyclotron resonance (ECR) plasma react...
- Auteurs : AYDIL E. S., GREGUS J. A., GOTTSCHO R. A.
- Date : 12/1993
- Langues : Anglais
- Source : Rev. sci. Instrum. - vol. 64 - n. 12
Voir la fiche
-
CMOS operational amplifier performance at cryog...
- Auteurs : SWENSON J. A., BAKER K. D.
- Date : 1993
- Langues : Anglais
- Source : Cryogenics - vol. 33 - n. 2
Voir la fiche
-
Performance of CMOS three-valued logic device (...
- Auteurs : SRIVASTAVA A.
- Date : 1992
- Langues : Anglais
- Source : Cryogenics - vol. 32 - n. 12
Voir la fiche
-
Characterization of a complementary metal-oxide...
- Auteurs : TODD-HASTINGS J., NG K. W.
- Date : 06/1995
- Langues : Anglais
- Source : Rev. sci. Instrum. - vol. 66 - n. 6
Voir la fiche