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Protocole de Montréal sur les substances détruisant la couche d'ozone. Rapport 1994 du Comité pour les options techniques sur les solvants, revêtements et adhésifs. Evaluation 1995.

Montreal Protocol on substances that deplete the ozone layer. 1994 Report of the Solvents, Coatings and Adhesives Technical Options Committee. 1995 Assessment.

Auteurs : ONU Environnement (ex-PNUE), ANDERSEN S. O.

Type de monographie : Rapport

Résumé

Extrait de la table des matières : introduction ; utilisations dans l'industrie électronique ; précision, métal et applications de nettoyage à sec (utilisation du R113 et du méthyl chloroforme et solutions pour en réduire l'usage ou les remplacer ; coût des remplaçants, considérations d'environnement, d'énergie, de santé et de sécurité) ; applications dans les adhésifs ; applications en revêtements et encres ; applications dans les aérosols ; autres utilisations comme solvants du R113 et du méthyl chloroforme (fabrication de semiconducteurs) ; alternatives aux solvants détruisant la couche d'ozone dans les pays en développement ; 22 études de cas d'activités d'élimination.

Détails

  • Titre original : Montreal Protocol on substances that deplete the ozone layer. 1994 Report of the Solvents, Coatings and Adhesives Technical Options Committee. 1995 Assessment.
  • Identifiant de la fiche : 1995-1993
  • Langues : Anglais
  • Sujet : Chiffres, économie, Réglementation, Pays en développement
  • Édition : UNEP (United Nations Environment Programme) - Kenya/Kenya
  • Date d'édition : 11/1994
  • Source : Source : 395 p. (21 x 29.7); fig.; tabl.; append.
  • Document disponible en consultation à la bibliothèque du siège de l'IIF uniquement.

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